English
首页
关于越亚
企业新闻
产品技术
研发创新
人力资源
投资者关系
联系我们
产品技术
主要产品
核心技术
核心技术
首页
>>
产品技术
>>
核心技术
CMP
CMP
运用先进的化学机械抛光(CMP)磨板技术去除铜柱顶部多余的半固化片材料,并采取无损检验的方法测量并控制经磨板抛光后的绝缘层厚度,以实现薄型化的封装基板。